平面>スパッタリングターゲットスパッタは調製薄膜材料の主要な技術の一つで、その利用イオン源の発生のイオンを経て、真空で加速が集まり、…
回転>スパッタリングターゲットスパッタは調製薄膜材料の主要な技術の一つで、その利用イオン源の発生のイオンを経て、真空で加速が集まり、…
金属化及び結合スパッタは調製薄膜材料の主要な技術の一つで、その利用イオン源の発生のイオンを経て、真空で加速が集まり、…
光電材料の代行スパッタは調製薄膜材料の主要な技術の一つで、その利用イオン源の発生のイオンを経て、真空で加速が集まり、…